Desenvolvimento de Hardware e Software de um sistema de espectroscopia Refletância difusa (DRS) para Medir a temperatura do substrato Semicondutor in-situ
DOI:
https://doi.org/10.33414/rtyc.41.118-134.2021Palavras-chave:
Espectroscopia de refletância difusa, SI-GaAs, n-GaAs, medições de temperaturaResumo
Um sistema de espectroscopia de refletância difusa (DRS) é desenvolvido para medir a temperatura de materiais semicondutores em câmara de ultra-alto vácuo. DRS é um método óptico para monitorar a temperatura de materiais semicondutores com o gap dependente da temperatura. O sistema é calibrado e testado para substratos n-GaAs e GaAs. Na comunicação atual, é relatado o desenvolvimento de hardware, software e calibração do sistema.
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