Comparación Teórica de la Intensidades de Fotoelectrones Emitidos por Rayos x en Nano- estructuras Multicapas con Diferentes geometrías

Resumen

La espectroscopía de fotoemisión de rayos X (XPS) es una técnica que puede ser usada para medir los espesores de capas delgadas en sistemas multicapas con diferentes geometrías. En este trabajo, se estudiaron muestras de doble capa compuestas por azufre (S) y óxido de silicio (SiO2) con diferentes espesores sobre un sustrato de oro dispuestas en tres geometrías diferentes: películas delgadas sobre sustrato plano de oro, esferas compactasy cilindros compactos con núcleos de oro. Se compararon las intensidades calculadas de los picos principales de XPS de los elementos (S, O, Si, Au) para cada geometría, lo que permitió determinar los espesores de las capas a partir de los datos experimentales. También se presentan los datos preliminares de XPS obtenidos de nanopartículas núcleo-cáscara con un espesor de recubrimiento grueso, en el rango de 15 a 20 nm.