Boyeras Baldomá S, Palumbo F. Estudio de la degradación y ruptura de estructuras MOS basadas en óxidos high-k multicapas. AJEA [Internet]. 5 de octubre de 2020 [citado 4 de diciembre de 2024];(5). Disponible en: https://rtyc.utn.edu.ar/index.php/ajea/article/view/650