Orellano, Santiago, Nicolás José Scenna, y Néstor Hugo Rodríguez. «Optimización Simultánea Del Diseño Conceptual De Procesos Y Layout De Planta Considerando El Riesgo Tecnológico». AJEA (Actas de Jornadas y Eventos Académicos de UTN), no. 5 (octubre 5, 2020). Accedido noviembre 24, 2024. https://rtyc.utn.edu.ar/index.php/ajea/article/view/734.