Orellano, S., Scenna, N. J. y Rodríguez, N. H. (2020) «Optimización Simultánea del Diseño Conceptual de Procesos y Layout de Planta Considerando el Riesgo Tecnológico», AJEA (Actas De Jornadas Y Eventos Académicos De UTN), (5). doi: 10.33414/ajea.5.734.2020.