Orellano, Santiago, Nicolás José Scenna, y Néstor Hugo Rodríguez. 2020. «Optimización Simultánea Del Diseño Conceptual De Procesos Y Layout De Planta Considerando El Riesgo Tecnológico». AJEA (Actas De Jornadas Y Eventos Académicos De UTN), n.º 5 (octubre). https://doi.org/10.33414/ajea.5.734.2020.