ORELLANO, S.; SCENNA, N. J.; RODRÍGUEZ, N. H. Optimización Simultánea del Diseño Conceptual de Procesos y Layout de Planta Considerando el Riesgo Tecnológico. AJEA (Actas De Jornadas Y Eventos Académicos De UTN), [S. l.], n. 5, 2020. DOI: 10.33414/ajea.5.734.2020. Disponível em: https://rtyc.utn.edu.ar/index.php/ajea/article/view/734. Acesso em: 24 abr. 2024.