Orellano, S., Scenna, N. J., & Rodríguez, N. H. (2020). Optimización Simultánea del Diseño Conceptual de Procesos y Layout de Planta Considerando el Riesgo Tecnológico. AJEA (Actas De Jornadas Y Eventos Académicos De UTN), (5). https://doi.org/10.33414/ajea.5.734.2020