Orellano, S., Scenna, N.J. y Rodríguez, N.H. 2020. Optimización Simultánea del Diseño Conceptual de Procesos y Layout de Planta Considerando el Riesgo Tecnológico. AJEA (Actas De Jornadas Y Eventos Académicos De UTN). 5 (oct. 2020). DOI:https://doi.org/10.33414/ajea.5.734.2020.